3D芯片时代将至,光学检测设备应用空间扩大

    发布来源:峨嵋半导体材料研究所 发布时间:2014-06-03 点击次数:

出自:精实新闻

    美商陆得斯科技(Rudolph Technologies, Inc.)指出,到了3D晶片时代,矽钻孔(TSV)、微凸块(micro bumping)等半导体制程技术越趋复杂,每一道程式的精密控制均开出新的检测需求,预料光学检测设备扮演角色依旧吃重,甚至将自表面量测等现行主流用途,开展出更大应用空间。
    光学检测作为制程式控制制(process control)的重要环节,无论是在半导体前段抑或后段制程,都扮演着决定成品可靠度的重要关键。随着3D晶片时代箭在弦上,不仅晶片尺寸缩微,制程也更加精密,自动光学检测(AOI)设备在半导体前、后段制程扮演的角色亦再获讨论。
    在半导体后段的先进封装领域,包括锡球凸块、铜柱凸块的高度不断缩减,光学检测设备精密度亦需与时俱进;随着先进制程与封装技术的快速演进,半导体2.5D与3D晶片的技术蓝图越来越清晰,更为光学检测设备的应用创造出更多的可能。
    美商陆得斯科技指出,扇出型晶圆级封装(Fan-out Wafer Level Packaging)同时解决晶片制造成本与封装体积的问题,已逐渐成为缩减晶片封装体尺寸的显学;而采用面板尺寸(panel size)的扇出型晶圆级封装(Fan-out WLP)技术持续演进,更衍生出晶片精准对位的需求,至此,光学检测已经不再只是单纯的缺陷检出工具。
    而随着TSV(矽钻孔)技术渐趋成熟,陆得斯科技也看好,包括钻孔、微凸块、边缘削减(edge trimming)、背磨(back grinding)等加工程式,由于牵系着晶片可靠度的成败,精密量测将带动新的光学检测需求,3D晶片发展趋势不仅不会造成光学检测无能为力的状况,反而将成就光学检测从现行的表面量测等现行主流用途,开展出更大应用空间。
    另一厢,日系设备商东丽工程(Toray Engineering)亦指出,为了因应晶片接脚数提升、凸块体积势将缩小,晶片衔接点往微凸块(micro bump)技术演进的趋势正在飞快加速,要确保晶片运作无碍,在制程式控制制流程中的光学检测仪器将更加不可或缺,也为检测设备商带来新的商机。
 

 
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